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抛光添加剂

电池背抛工艺辅助剂，消除N排放带来的环境污染，符合环保要求的一种水溶性、无毒无害的添加剂。该产品可以实现硅片的选择性腐蚀（对氧化硅起到防腐保护作用，仅对裸硅、构性氧化硅进行腐蚀）

产品成分：

表面活性剂，促进剂，光亮剂，保护剂

表面活性剂

增强溶液的润湿性，减低表面张力，增强硅片接触；

促进剂

加速硅片的反应速度；

光亮剂

增强背面光亮度和反射率；

保护剂

增加氧化硅的保护能力；

产品优势：

1.耗量低，单片耗量＜ 0.4ml

2.初配碱耗可以降低40%，过程碱补加降低20%.

3.外观无卡尺印，抛光面洁净，无残留

4.底座平整，无反应台阶

5.TP电池背面硼扩层残留可以有效去除

6.可以实现不同抛光塔基形貌

IBC电池前抛光工艺辅助剂，符合环保要求的一种水溶性、无毒无害的添加剂。该产品仅对裸硅进行腐蚀，增大比表面积和硅片平整度。

产品成分：

表面活性剂，促进剂，光亮剂，保护剂

表面活性剂

增强溶液的润湿性，减低表面张力，增强硅片接触；

促进剂

加速硅片的反应速度；

光亮剂

增强背面光亮度和反射率；

保护剂

增加氧化硅的保护能力；

产品优势：

1.反射率：35%-42%,通过温度、时间变化可调;

2.抛光基底：方形的”塔基”在10-40pm内可根据需求，根据温度、时间线性可调;

3.减重：0.50g-1.0gz为了确保线痕足够浅，根据需求可调

4.线痕深度：＜ 1.5μm;

电池后抛光工艺辅助剂，消除N排放带来的环境污染，符合环保要求的一种水溶性、无毒无害的添加剂。该产品可以实现硅片的选择性腐蚀（对氧化硅起到防腐保护作用，仅对裸硅、构性氧化硅进行腐蚀）

产品优势：

1.对于激光氧化硅区域可以实现定向腐蚀

2.对于非激光区域氧化硅保护性强

3.构性氧化硅腐蚀区域深度可以控制2-5μm

4.温宿适应性强可以满足不同工艺温度下的适配